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    離子研磨儀

    離子研磨儀

    簡要描述:SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現(xiàn)出色的效果。

    產(chǎn)品型號: SEMPREP SMART

    所屬分類:臺式離子研磨拋光儀

    更新時間:2024-12-26

    廠商性質(zhì):其他

    詳情介紹
    品牌其他品牌產(chǎn)地進口
    產(chǎn)品新舊全新

    SEMPREP SMART 離子研磨儀

    SEMPREP SMART離子研磨儀配備了高能量和可選的低能量氬離子槍。這款設(shè)備是用于掃描電子顯微鏡(SEM)和電子背散射衍射(EBSD)樣品的最終加工和清潔的理想選擇。離子加工可以改進和清潔機械拋光的 SEM 樣品并為 EBSD 分析制備無損表面。該設(shè)備還適用于快速截面加工。為您制備高精度和高質(zhì)量的樣品,例如在半導體測試或鋰離子電池隔膜的截面檢查中均能實現(xiàn)出色的效果。

    離子研磨儀

     主要特點:

     先進的離子槍設(shè)計和自動化功能

     新型用戶友好操作軟件:為用戶提供智能輔助

     更精確的針閥:允許對氣流進行精細調(diào)整

     高精度可調(diào)性:用于精細調(diào)節(jié)操作
     更長壽命高真空傳感器

    產(chǎn)品功能:

     可選低能槍(LEG)

     可選的新型 LN2 冷卻系統(tǒng)

     可選真空轉(zhuǎn)移裝置 (VTU),用于在真空條件下取出樣品

     獨立的對位樣品臺:在進行 90° 加工時用于精確樣品定位

    技術(shù)參數(shù):

    離子槍:

    超高能量離子槍,最高可達 16 keV

    樣品尺寸

    截面樣品臺(可選 30°、90°樣品臺):

      30°樣品臺:最大尺寸16.4mm (長) x 16mm (寬) x 3.1mm (厚) 

     90°樣品臺:最大尺寸18.6mm (長) x 16mm (寬) x 6mm ()

    用于表面加工(EBSD)的平面樣品臺,配有三種不同的頭部類型

     平頭型:最大直徑 50mm x 4mm

     標準型:最大直徑 32mm x 15mm

     空心型:最大直徑 25mm x 23mm

    樣品臺移動

     樣品傾斜角度:0° 至 30°,每 0.1° 連續(xù)可調(diào)

     樣品旋轉(zhuǎn)角度調(diào)節(jié):360 可變速樣品旋轉(zhuǎn),角度速度可調(diào)

     樣品加工擺角(搖擺):±10° 至 ±120°,每 5° 連續(xù)可調(diào)

     樣品冷卻(可選)

    液氮冷卻或 Peltier 冷卻

    真空系統(tǒng) 

    無油隔膜泵和分子泵  

    氣體供應(yīng)系統(tǒng) 

    純度為 99.999% 的氬氣工作氣體,高精度針閥流量控制 

    分子泵

    HiPace 80 Neo. 

    成像系統(tǒng) 

    500萬像素CMOS相機,具有圖像內(nèi)的測量功能 

    計算機控制 

    易于使用的圖形界面,自動化離子槍操作和樣品臺 位置校準



    使用氬離子束進行加工

    離子研磨儀




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